Evolución histórica de la empresa e hitos en el desarrollo de productos
La empresa tiene su origen en una empresa de grabado químico de metales fundada en 1889 por Wilhelm Heidenhain en Berlín, que producía plantillas, letreros, graduaciones y escalas. Después de la destrucción de la empresa durante la segunda guerra mundial, el hijo del fundador estableció en Traunreut la firma DR. JOHANNES HEIDENHAIN. Los primeros productos fueron de nuevo graduaciones, así como escalas para balanzas con indicación del precio. Muy pronto se incorporaron al programa de fabricación sistemas ópticos de medición de posición para máquinas herramienta. Al comienzo de los años sesenta tuvo lugar la transición a los sistemas lineales y angulares de medida con captación fotoeléctrica. Estos desarrollos hicieron posible la automatización de muchas máquinas e instalaciones de la industria de fabricación.
Desde mediados de los años setenta, HEIDENHAIN ha ido convirtiéndose en un fabricante de tecnología de control y accionamientos para máquinas-herramienta cada vez más importante.
Desde sus inicios, la empresa ha tenido una fuerte orientación técnica. Para asegurarlo, así como la estabilidad e independencia de la empresa como base para su continuo desarrollo, el Dr. Johannes Heidenhain convirtió en 1970 su participación en la empresa en una fundación de utilidad para la comunidad. Ello permite hoy en día a HEIDENHAIN llevar a cabo elevadas inversiones en investigación y desarrollo.
Hitos históricos
1889 | Fundación de la empresa de grabado químico de metales W. HEIDENHAIN en Berlín |
1923 | El Dr. Johannes Heidenhain entra a trabajar en la empresa paterna |
1948 | Nuevo inicio de la empresa DR. JOHANNES HEIDENHAIN en Traunreut |
1950 | Invención del procedimiento DIADUR: fabricación de graduaciones resistentes de precisión sobre vidrio copiando la graduación original. |
1970 | Creación de la fundación de utilidad pública DR. JOHANNES HEIDENHAIN-STIFTUNG GmbH |
1980 | Fallecimiento del Dr. Johannes Heidenhain |
2014 | A escala mundial, HEIDENHAIN está presente en todos los países industrializados |
Proyectos de técnica de medición
| 1961 | Microscopio de medición fotoeléctrico |
| 1966 | Comparador interferencial para el Instituto Físico-Técnico Federal (PTB) |
| 1971 | Mesa de medición angular y verificador de discos graduados para el PTB |
| 1977 | Goniómetro de precisión para el PTB |
| 1989 | Sistemas angulares de medida para el New Technology Telescope NTT |
| 1999 | Sistemas angulares de medida para el Very Large Telescope VLT |
| 1999 | Escalas para la comparación internacional de medición lineal NANO-3 entre un gran número de institutos nacionales de metrología. |
| 2001 | Comparador interferencial nanométrico para el PTB |
| 2003 | Comparación de medición angular entre HEIDENHAIN, el PTB y AIST (instituto estatal de investigación japonés) |
| 2004 | Comparación de medición lineal entre HEIDENHAIN, el PTB y MITUTOYO |
| 2004 | Sistemas angulares de medida para el telescopio GRANTECAN (Gran Telescopio CANARIAS) |
| 2005 | Comparación de medición angular entre HEIDENHAIN y PTB |
| 2007 | Sistemas angulares de medida para las 25 antenas europeas ALMA (Atacama Large Telescope Array) |
| 2013 | Sistemas angulares de medida para el telescopio Daniel K. Inouye Solar (DKIST, antes Advanced Technology Solar Telescope, ATST) |
Hitos en graduaciones
1936 | Regla de vidrio copiada fotomecánicamente con precisión de ± 0,015 mm |
1943 | Disco graduado copiado con precisión de ± 3 segundos |
1952 | Las escalas para balanzas representan la facturación principal |
1967 | Retículas autoportantes, microestructuras |
1985 | Marcas de referencia codificadas para reglas incrementales |
1986 | Reglas de retícula de fases |
1995 | Retícula en cruz plana para 2 sistemas de medida de coordenadas |
2002 | Estructuras para retículas de fases planas para sistemas lineales de medida interferenciales |
2005 | Retículas de amplitud insensibles a la contaminación, fabricadas mediante ablación láser |
2009 | Retícula en cruz de gran superficie (400 mm x 400 mm) para sistemas de medida en la industria de semiconductores |
Hitos en sistemas de medida: sistemas lineales de medida abiertos
1952 | Sistemas lineales de medida ópticos para máquinas herramienta. |
1961 | Sistema lineal de medida incremental LID 1, periodo de división 8 µm / resolución 2 µm |
1963 | Sistema lineal de medida codificado LIC con 18 pistas, código binario puro / resolución 5 µm |
1965 | Interferómetro láser para la medición de máquinas-herramienta |
1987 | Sistema lineal de medida interferencial abierto LIP 101, resolución 0,02 µm |
1989 | Sistema lineal de medida interferencial abierto LIP 301, resolución 1 nm |
1992 | Sistema lineal de medida interferencial bidimensional PP 109R |
2008 | Sistema lineal de medida interferencial LIP 200 con periodo de señal 0,512 µm, para velocidades de desplazamiento de hasta 3 m/s |
2010 | Sistema lineal de medida absoluto abierto LIC 4000 con 2 pistas, |
2012 | Sistema lineal de medida absoluto de una pista LIC 2100 |
| 2015 | Sistema lineal de medida interferencial LIP 6000 con diseño muy compacto |
Hitos en sistemas de medida: sistemas lineales de medida encapsulados
1952 | Sistemas lineales de medida ópticos para máquinas herramienta. |
1966 | Sistema lineal de medida incremental encapsulado LIDA 55.6 con regla de acero |
1975 | Sistema lineal de medida incremental LS 500 con regla de vidrio, longitud de medida hasta 3 m, resolución 10 µm |
1977 | Sistema lineal de medida incremental LIDA 300, medición hasta 30 m |
1994 | Sistema lineal de medida absoluto encapsulado LC 181 con 7 pistas, interfaz EnDat, longitud de medida hasta 3 m, resolución 0,1 µm |
1996 | Sistema lineal de medida absoluto LC 481 con 2 pistas, PRC, EnDat, longitud de medida hasta 2 m |
2011 | Sistema lineal de medida absoluto LC 200, longitud de medida hasta 28 m, PRC, resolución 10 nm |
2014 | Sistema lineal de medida absoluto LC xx5, longitud de medida hasta 4 m, resolución 1 nm |
| 2015 | Sistema lineal de medida incremental LP 100, longitud de medida hasta 3 m, resolución 31,25 pm |
Hitos en sistemas de medida: sistemas angulares de medida
1952 | Sistemas angulares de medida ópticos |
1957/1961 | Sistema angular de medida fotoeléctrico ROD 1 con 40.000 periodos de señal/vuelta, 10.000 impulsos |
1962 | ROD 1 con 72.000 periodos de señal/vuelta |
1964 | Sistema angular de medida absoluto ROC 15 / resolución 17 bit |
1975 | Sistema angular de medida incremental ROD 800, precisión ± 1 segundo |
1986 | Sistema angular de medida incremental RON 905, precisión ± 0,2 segundos |
1997 | Sistema angular de medida absoluto con acoplamiento estator integrado en versión de eje hueco RCN 723, 23 bit monovuelta, interfaz EnDat, precisión ± 2 segundos |
2000 | Sistema angular de medida interferencial ERP 880 con 180.000 periodos de señal/vuelta, precisión ± 0,2 segundos |
2004 | Sistema angular de medida absoluto RCN 727 con diámetro de eje hueco de hasta 100 mm |
2009 | Sistema angular de medida interferencial ROP 8080, para probadores de wafers, combinación rodamiento de carga y sistema angular de medida, 360.000 periodos de señal/vuelta |
2011 | Sistema angular de medida interferencial en miniatura ERP 1080 en versión Single-Chip-Encoder |
Hitos en sistemas de medida: generadores rotativos de impulsos
1957/1961 | Generador rotativo de impulsos incremental fotoeléctrico ROD 1 con 10.000 impulsos |
| 1964 | Generador rotativo de impulsos incremental estándar de las series ROD 2 / ROD 4 |
1981 | Generador rotativo de impulsos incremental ROD 426, el estándar de la industria |
1987 | Generador rotativo de impulsos absoluto multivuelta ROC 221 S, 12 bit monovuelta, 9 bit multivuelta |
1992 | Generadores rotativos de impulsos incrementales modulares ERN 1300 para temperaturas de trabajo de hasta 120°C |
1993 | Generadores rotativos de impulsos absolutos monovuelta y multivuelta ECN 1300 y EQN 1300 |
2000 | Generador rotativo de impulsos absoluto multivuelta en miniatura EQN 1100 en técnica Chip-On-Board |
2000 | Generador rotativo de impulsos absoluto monovuelta ECN 100 con diámetro de eje hueco de hasta 50 mm |
2004 | Generadores rotativos de impulsos absolutos monovuelta y multivuelta en miniatura ECI 1100 y EQI 1100 (con palpación inductiva) |
2007 | Generadores rotativos de impulsos absolutos con "Functional Safety" SIL2/PL d e interfaz EnDat 2.2 |
| 2012 | ERN 1387 Palpación incremental con precisión mejorada gracias al nuevo desarrollo Palpación-ASIC |
| 2014 | Generadores rotativos de impulsos absolutos para aplicaciones hasta SIL3/PL e, interfaz EnDat 2.2 y eliminación de errores |
Hitos en el área de controles numéricos, electrónica
1968 | Incrementador / contador de cuenta atrás VRZ 59.4 para 1 eje |
1974 | Visualizador numérico de cotas HEIDENHAIN 5041 |
1976 | Controles numéricos de posicionamiento TNC 110 y TNC 120 para 3 ejes |
1979 | Controles numéricos paraxiales TNC 131 / TNC 135 |
1981 | Control numérico de contorneado para 3 ejes TNC 145 |
1984 | Control numérico de contorneado para 4 ejes TNC 155 simulación gráfica del mecanizado de la pieza |
1995 | Protocolo síncrono en serie EnDat para sistemas de medida de posición absolutos |
1996 | Control de contorneado TNC 426 con regulación digital de accionamientos para 5 ejes |
1996 | Paquete completo HEIDENHAIN TNC 410 MA con inversores y motores |
2004 | Control numérico de contorneado iTNC 530 con modo de funcionamiento alternativo smarT.NC |
2007 | Control numérico de contorneado TNC 620 con HSCI, para protocolo de control en serie |
2011 | Control numérico de contorneado TNC 640 para el mecanizado combinado de fresado y torneado |