Serie LIC 4100 V

Sistema lineal de medida absoluto para aplicaciones de vacío

  • Para ejes lineales con velocidad de desplazamiento elevada
  • Versión con paso de medición muy pequeño (<1 nm)
  • Interfaces: EnDat, Fanuc, Mitsubishi, Panasonic y Yaskawa
  • Las placas de circuito impreso, los adhesivos y las lacas para aplicaciones de vacío reducen la desgasificación
  • Las cavidades ventiladas acortan el tiempo de bombeo
  • La resistencia térmica permite alcanzar temperaturas de calentamiento elevadas
  • Sin materiales ferromagnéticos, para obtener una fiabilidad de proceso elevada
  • El horneado previo al envasado garantiza la máxima limpieza

Para aplicaciones de alto vacío

La tecnología de vacío desempeña un papel importante en muchos procesos modernos de producción y tareas de investigación. Los procesos con tecnología de vacío se han hecho indispensables en la electrónica, la tecnología de películas finas, el desarrollo de nuevos materiales, la biotecnología y la tecnología médica y analítica.

Elevada velocidad de desplazamiento

Los sistemas lineales de medida LIC permiten movimientos de recorrido muy rápidos a pesar de su gran precisión. Con pasos de medición de tan solo 1 nm se pueden alcanzar velocidades de hasta 600 m/min. Los valores de posición se registran de forma absoluta y son especialmente fiables gracias a su elevada resistencia a la contaminación.

Variantes del producto

Los sistemas lineales de medida abiertos constan de un soporte de medida y un cabezal captador. En las listas, seleccione los dos componentes que correspondan. Si desea asesoramiento adicional, póngase en contacto con nuestro departamento de ventas por teléfono, correo electrónico o a través del formulario de contacto.

Soporte de medida

Cabezal captador